研課題
J-GLOBAL ID:200904097995323543  研究課題コード:0250001978 更新日:2007年05月17日

全体配列制御を用いた先進プロセスに関する研究 金属・半導体材料の自己組織化を利用したプロセスに関する研究 水素原子をトリガーとしたヘテロ界面初期構造の全体配列に関する研究

実施期間:2000 - 2004
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究分野 (1件): その他
研究概要:
(k2001.10)
プロジェクト名: 物質・材料系科学技術 物質・材料の自己組織化機構の解析と制御に関する研究
プロジェクト実施機関 (1件):
  • 理化学研究所(0292513037)
プロジェクト代表研究者 (1件):
  • 主任研究員 青野 正和(表面界面工学研究室)
研究制度: 科学技術振興調整費
研究所管省庁:
文部科学省

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