資料
J-GLOBAL ID：200909053732901110
JST資料番号 (フル)：N20072685F
JST資料番号：N20072685
次世代超高密度電子回路技術を視野に入れたナノスケール構造体の創製技術の開発研究成果中間報告書 平成17-18年度 ハイテク・リサーチ・センター活動状況およびプロジェクト進展状況
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N20072685
資料内容種別：一般記事, 冊子体, その他
刊行頻度： その他
発行国：日本(JPN)
本文使用言語 (1件)：
日本語(JA)
編集団体名 (1件)：
文部科学省
出版団体名：
関東学院大学ハイテク・リサーチ・センター
出版地：横浜
JST所蔵 (0件)：
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