研究者
J-GLOBAL ID:201001032535153998   更新日: 2017年04月03日

中村 嘉孝

ナカムラ ヨシタカ | Nakamura Yoshitaka
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (4件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  結晶工学 ,  応用物性
競争的資金等の研究課題 (1件):
  • スパッタリング法による高品質YBCO薄膜の作成
論文 (15件):
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書籍 (1件):
  • 電子物性入門
    コロナ社 2016 ISBN:9784339008784
講演・口頭発表等 (9件):
  • 各種触媒金属バッファー層上へのグラフェンの作製
    (応用物理学会東北支部学術講演会 2014)
  • スパッタ法による酸化物半導体薄膜の作製と評価
    (平成25年度東北地区高等専門学校専攻科産学連携シンポジウム講演会 2013)
  • PtドープGdBa_2Cu_3O_y薄膜の作製と評価
    (低温工学・超電導学会講演概要集 = Meetings of Cryogenics and Superconductivity 2005)
  • スパッタリング法によるエピタキシャルTiO2薄膜の作製
    (電気関係学会東北支部連合大会講演論文集 2003)
  • ヘリコンスパッタリング法によるYBCOの作製
    (低温工学・超電導学会講演概要集 = Meetings of Cryogenics and Superconductivity 1995)
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学歴 (2件):
  • - 1996 山形大学 工学研究科 システム情報工学
  • - 1990 岩手大学 工学部 電子工学科
学位 (1件):
  • 博士(工学)
受賞 (2件):
  • 1996 - 電気学会東北支部支部長賞
  • 1992 - 電気学会論文発表賞B
所属学会 (5件):
日本結晶成長学会 ,  日本物理学会 ,  低温工学協会 ,  電気学会 ,  応用物理学会
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