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J-GLOBAL ID:201002000619911027 整理番号:77A0308195
シリコンのヘテロエピタキシャル蒸着膜のドーピング
Das Dotieren aufgedampfter heteroepitaktischer Siliziumschichten.
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資料名:
Krist Tech (Kristall und Technik)
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巻:
12
号:
5
ページ:
447-455
発行年:
1977年
JST資料番号:
B0738A
ISSN:
0023-4753
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
東ドイツ (DDR)
言語:
ドイツ語 (DE)
抄録/ポイント:
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シソーラス用語:
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