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J-GLOBAL ID：201002002158845402   整理番号：77A0213532

イオンを使った薄膜製作

著者 (1件)： 小宮宗治
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 46  号： 2  ページ： 185-190  発行年： 1977年 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオンが蒸着中の基板面に入射している状況での蒸着について次の...

シソーラス用語： イオンめっき ,...

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引用文献 (90件)：

• 1) D. M. Mattox: in Proceedings of the Conference on “Sputtering and Ion Plating” NASA SP-5111 (National Technical Information Serve, Spingfield. Virginia 22151, 1972).
• 2) D. M. Mattox: J. Vac. Sci. Technol.. 10 (1973) 48.
• 3) S. Aisenberg and R. W. Chabot: J. Vac. Sci. Technol., 10 (1973) 104.
• 4) T. Spalvins, J. S. Pryzybyszwski and D. H. Buckley: NASA TN D-3707 (1966).
• 5) T. Spalvins: Lubrication Engr., 27 (1971) 40.

タイトルに関連する用語 (3件)： イオン ,  薄膜 ,  製作