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J-GLOBAL ID：201002006879933596   整理番号：78A0022330

紫外線露光による選択的無電解めっき

著者 (2件)： 本間英夫 (関東学院大・工) ,  保坂哲や (関東学院大・工学総研)
資料名： 日本化学会誌  (化学と工業化学)
号： 11  ページ： 1614-1619  発行年： 1977年 
JST資料番号： F0226B  ISSN： 0369-4577  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： UVを用いてガラス基板上に選択的に微細パターンを形成する方法...

シソーラス用語： 紫外線照射 ,...

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引用文献 (11件)：

• 1) N. Feldstein, Plating, 57, 802(1970)-
• 2) D. J. Sharp, Plating., 58, 786(1971).
• 3) F. D'Amico, M. A. DeAngelo, J. F. Henrickson, J. T. Kenny, D. J. Sharp, J. Electrochem. Soc., 118, 1695 (1971).
• 4) R. L. Cohen, J. F. D'Amico, K. W. West, J. Electrochem. Soc., 118, 2022 (1971).
• 5) S. L. Chow, N. E. Hendgecock, M. Schlesinger, J. Rezek, J. Electrochem. Soc., 119, 1013 (1972).

タイトルに関連する用語 (2件)： 紫外線露光 ,  無電解めっき