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J-GLOBAL ID：201002007032205671 整理番号：78A0023468
不均質物質中のイオン注入分布
Ion implantation distributions in inhomogeneous materials.
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WINTERBON K B
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資料名：
Appl Phys Lett (Applied Physics Letters)
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巻：
31
号：
10
ページ：
649-651
発行年：
1977年
JST資料番号：
H0613A
ISSN：
0003-6951
CODEN：
APPLA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
短報
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
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ランダム媒質内でイオン注入距離,損傷,イオン化分布を与える積...
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