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J-GLOBAL ID：201002017995804363   整理番号：79A0220047

低分子量含塩素混入物の存在下でのポリスチレン(PSt)の光分解挙動

Особенности фотодеструкции полистирола в присутствии низкомолекулярных хлорсодержащих примесей.

著者 (4件)： ИВАНЧЕВ С С ,  КОРНЕВА Т Д ,  МАКСИМОВ В Л ,  ПОДОСЕНОВА Н Г
資料名： Vysokomol Soedin Ser A  (Vysokomolekulyarnye Soedineniya. Seriya A i Seriya B)
巻： 21  号： 3  ページ： 669-676  発行年： 1979年 
JST資料番号： R0216C  ISSN： 0042-9368  CODEN： VYSAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： 各種溶剤を用いて成型したPSt薄膜に紫外線を照射した場合の生...

シソーラス用語： ポリスチレン ,...

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タイトルに関連する用語 (6件)： 低分子量 ,  塩素 ,  混入物 ,  ポリスチレン ,  光分解 ,  挙動