低電圧スパッタしたW膜の内部応力の原因

SUN R C; TISONE T C; CRUZAN P D

文献

J-GLOBAL ID：201002023732938667 整理番号：75A0160516

低電圧スパッタしたW膜の内部応力の原因

The origin of internal stress in low-voltage sputtered tungsten films.

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資料名：
巻： 46 号： 1 ページ： 112-117 発行年： 1975年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

低電圧三極スパッタしたW膜中の応力のたい積条件および基板材料...

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