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J-GLOBAL ID：201002027092538077   整理番号：80A0067712

特集:転換期の中の半導体プロセス技術 高圧酸化技術

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著者 (2件)：
坪内夏朗

坪内夏朗 について

(三びし電機LSI開セ)

三びし電機LSI開セ について

, 
三好寛和

三好寛和 について

(三びし電機)

三びし電機 について


資料名：
電子材料  (Electronic Parts and Materials)

電子材料 について


巻： 18  号： 11  ページ： 51-55  発行年： 1979年 
JST資料番号： F0040A  ISSN： 0387-0774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記技術の現状について概観し,高圧酸化装置,シリコンの高圧酸...
シソーラス用語：
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酸化

酸化 について

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タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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半導体プロセス

半導体プロセス について

, 
高圧

高圧 について

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酸化

酸化 について


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