文献
J-GLOBAL ID：201002027590126070   整理番号：79A0124799

遠隔汚染測定と工程管理へのcw化学レーザの応用

Application of a cw chemical laser for remote pollution monitoring and process control. Measurement of the hydrogen fluoride concentration in an aluminum plant.
著者 (4件)：
TOENNISSEN A

TOENNISSEN A について

, 
WANNER J

WANNER J について

, 
ROTHE K W

ROTHE K W について

, 
WALTHER H

WALTHER H について


資料名：
Appl Phys  (Applied Physics)

Appl Phys について


巻： 18  号： 3  ページ： 297-304  発行年： 1979年 
JST資料番号： D0256B  ISSN： 0340-3793  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
公害を与える気体汚染物としてふっ化水素は近年関心が持たれてお...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
大気汚染質

大気汚染質 について

,...
   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=79A0124799&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0256B") }}
タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
汚染測定

汚染測定 について

, 
工程管理

工程管理 について

, 
CW

CW について

, 
化学レーザ

化学レーザ について

, 
応用

応用 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM