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J-GLOBAL ID：201002028594613680   整理番号：78A0127190

有機金属のCVD過程により成長したIII-V化合物の最近の進歩

Recent advances in III-V compounds grown by organometallic CVD processes.

著者 (1件)： WANG C C
資料名： Chem Vapor Deposition  (International Conference on Chemical Vapor Deposition)
巻： 6th  ページ： 249-263  発行年： 1977年 
JST資料番号： E0761A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機金属法の長所と欠点を明らかにし,通常の蒸気相成長方法と比...

シソーラス用語： 有機金属化合物 ,...

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タイトルに関連する用語 (5件)： 有機金属 ,  CVD ,  過程 ,  成長 ,  V化合物