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J-GLOBAL ID：201002033848193567   整理番号：78A0047039

マイクロ波プラズマエッチング

Microwave plasma etching.

著者 (4件)： SUZUKI K ,  OKUDAIRA S ,  SAKUDO N ,  KANOMATA I
資料名： Jpn J Appl Phys  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 16  号： 11  ページ： 1979-1984  発行年： 1977年 
JST資料番号： G0520A  CODEN： JJAPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ波放電を用いた新しいプラズマエッチングを紹介。シリコ...

シソーラス用語： プラズマ応用 ,...

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引用文献 (9件)：

• 1) G. W. Sachse, W. E. Miller and C. Gross: Solid-State Electronics 18 (1975) 431.
• 6) H. Abe: IEEE Tokyo Section, Denshi Tokyo 13 (1974) 54.
• 7) L. Zielinski and G. G. Schwartz: 147th Electrochemical Soc. Meeting, Extended Abstracts, Vol. 75–1, pp. 117–118, Spring 1975.
• 8) L. Zielinski: 149th Electrochemical Soc. Meeting, Extended Abstracts, Vol. 76–1, p. 147, Spring 1976.
• 9) M. Brochu and R. G. Poulsen: 149th Electrochemical Soc. Meeting, Extended Abstracts, Vol. 76–1, pp. 143–145, Spring 1976.

タイトルに関連する用語 (2件)： マイクロ波プラズマ ,  エッチング