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J-GLOBAL ID：201002037067578124   整理番号：80A0022897

Ni(Si)およびNi(Ge)合金における欠陥-溶質原子相互作用と照射誘起偏析

Defect-solute interactions and radiation-induced segregation in Ni(Si) and Ni(Ge) alloys.
著者 (2件)：
GUPTA R P

GUPTA R P について

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Centre d’Etudes Nucl<span style=text-decoration:overline>e ́</span>aires de Saclay, France について

, 
LAM N Q

LAM N Q について

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資料名：
Scr Metall  (Scripta Metallurgica)

Scr Metall について


巻： 13  号： 11  ページ： 1005-1010  発行年： 1979年 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 0036-9748  CODEN： SCRMB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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照射誘起偏析と析出は,照射環境でかつ高温で使用する合金の物理...
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シソーラス用語/準シソーラス用語
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ニッケル合金

ニッケル合金 について

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Ni

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溶質原子

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相互作用

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照射誘起偏析

照射誘起偏析 について


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