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J-GLOBAL ID：201002037146132298   整理番号：79A0104321

ほう水素化ナトリウムを用いる無電解ニッケルめっきの研究 XI コンピュータ解析による無電解Ni-B皮膜の耐食性の評価

Studies on the electroless nickel plating with NaBH₄ as a reducing agent. XI. Application of computer analysis for the evaluation of corrosion resistance of electroless Ni-B deposits.

著者 (2件)： MATSUOKA M ,  HAYASHI T
資料名： 電気化学および工業物理化学  (電気化学)
巻： 47  号： 1  ページ： 12-16  発行年： 1979年 
JST資料番号： G0072A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無電解ニッケルめっき皮膜の耐食性評価法として,Newton-...

シソーラス用語： 無電解めっき ,...

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タイトルに関連する用語 (9件)： ほう水素化ナトリウム ,  無電解ニッケルめっき ,  研究 ,  コンピュータ解析 ,  電解 ,  Ni ,  皮膜 ,  耐食性 ,  評価