文献
J-GLOBAL ID：201002037591752646
整理番号：76A0093726
シリコン窒化物膜の直接rfスパッタ析出
Silicon nitride films by direct RF sputter deposition.
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著者 (1件)：
資料名：
巻：
122
号：
9
ページ：
1271-1273
発行年：
1975年
JST資料番号：
C0285A
ISSN：
0013-4651
CODEN：
JESOA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
短報
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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アルゴンと窒素の混合物を用い,Si
3N...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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