文献

J-GLOBAL ID：201002038612950636   整理番号：77A0228690

不活性ガスおよび活性ガス中の高周波スパッタリングとプラズマ重合で作られたフルオロカーボン膜の性質

The properties of fluorocarbon films prepared by r.f. sputtering and plasma polymerization in inert and active gas.

著者 (3件)： BIEDERMAN H ,  OJHA S M ,  HOLLAND L
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 41  号： 3  ページ： 329-339  発行年： 1977年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  CODEN： THSFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ターゲット放射だけおよびアルゴンを付加した場合のグロー放電中...

シソーラス用語： ポリテトラフルオロエチレン ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=77A0228690&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

タイトルに関連する用語 (6件)： 不活性ガス ,  活性 ,  高周波スパッタリング ,  プラズマ重合 ,  フルオロカーボン ,  性質