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J-GLOBAL ID：201002040760210999   整理番号：77A0382377

CF4プラズマ中におけるけい酸塩ガラス膜のエッチング特性

Etching characteristics of silicate glass films in CF4 plasma.
著者 (3件)：
JINNO K

JINNO K について

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KINOSHITA H

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MATSUMOTO Y

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資料名：
J Electrochem Soc  (Journal of the Electrochemical Society)

J Electrochem Soc について


巻： 124  号： 8  ページ： 1258-1262  発行年： 1977年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 0013-4651  CODEN： JESOA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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プラズマ加工

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エッチング特性

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