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J-GLOBAL ID:201002040780870561 整理番号:79A0259857
VLSI用のリフラクトリ金属ゲート工程
Refractory metal gate processes for VLSI applications.
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著者 (1件):
SHAH P L
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名寄せID(JGPN) 201550000159182447 ですべてを検索
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資料名:
IEEE Trans Electron Devices (IRE Transactions on Electron Devices)
IEEE Trans Electron Devices について
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巻:
26
号:
4
ページ:
631-640
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)
抄録/ポイント:
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