文献
J-GLOBAL ID:201002041139190832   整理番号:78A0261079

イオンビーム法によるAlN膜の直流反応性スパッタリング機構の研究

Study of the d.c. reactive sputtering mechanisms of Al N films by ion beam methods.
著者 (4件):
資料名:
巻: 7th  号:ページ: 1245-1248  発行年: 1977年 
JST資料番号: K19770176  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: オーストリア (AUT)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
AlN膜の直流反応性スパッタリングを重水素照射核反応とラザフ...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=78A0261079&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=K19770176") }}
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る