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J-GLOBAL ID：201002041218227938   整理番号：79A0168592

ラジカル-イオン相互作用 剛直マトリックス中のハロゲン化物への解離的電子付加により発生したジフェニルメチルおよびトリフェニルメチルラジカル

Radical-ion interaction. Diphenylmethyl and triphenylmethyl radical generated by the dissociative electron attachment to halogenated compounds in rigid matrices.

著者 (4件)： IZUMIDA T ,  TANABE Y ,  ICHIKAWA T ,  YOSHIDA H
資料名： Bull Chem Soc Jpn  (Bulletin of the Chemical Society of Japan)
巻： 52  号： 1  ページ： 235-236  発行年： 1979年 
JST資料番号： G0450A  ISSN： 0009-2673  CODEN： BCSJA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 77K,ガンマ線照射3-メチルヘキサンのマトリックス中でジフ...

シソーラス用語： ラジカル ,...

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引用文献 (11件)：

• 1) M. Irie, M. Shimizu, and H. Yoshida, Chem. Phys. Lett., 25, 102 (1974).
• 2) M. Irie, M. Shimizu, and H. Yoshida, J. Phys. Chem., 80, 2008 (1976).
• 3) T. Izumida, T. Ichikawa, and H. Yoshida, J. Phys. Chem., in press.
• 4) T. Saito and H. Yoshida, Bull. Chem. Soc. Jpn., 47, 3167 (1974).
• 5) I. Orman and G. Poter, Proc. R. Soc. London, Ser. A, 230, 399 (1955).

タイトルに関連する用語 (8件)： ラジカル ,  イオン ,  相互作用 ,  マトリックス ,  ハロゲン化物 ,  解離 ,  電子 ,  トリフェニルメチルラジカル