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J-GLOBAL ID：201002041605687289   整理番号：78A0235019

無定形および結晶質のけい素およびタンタル膜間の熱相互作用のRutherford散乱解析

Rutherford scattering analysis of thermal interactions between amorphous or crystalline silicon and tantalum films.
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RIGO S

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TUROS A

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VELASCO G

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資料名：
Int Vac Congr  (Proceedings. International Vacuum Congress 7th 770912 Vol.1-3)

Int Vac Congr について


巻： 7th  号： 2  ページ： 1109-1112  発行年： 1977年 
JST資料番号： K19770176  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： オーストリア (AUT)  言語： 英語 (EN)
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真空蒸着Ta膜と無定形けい素膜(a-Si)およびけい素単結晶...
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無定形

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