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J-GLOBAL ID：201002044855053357   整理番号：77A0228683

有機ハフニウム化合物からの酸化ハフニウム膜の化学蒸着と評価

Chemical vapor deposition and characterization of HfO₂ films from organo-hafnium compounds.

著者 (4件)： BALOG M ,  SCHIEBER M ,  MICHMAN M ,  PATAI S
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 41  号： 3  ページ： 247-259  発行年： 1977年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  CODEN： THSFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： β-ジケトネート・ハフニウムの酸素介在(assisted)分...

シソーラス用語： 酸化ハフニウム ,...

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タイトルに関連する用語 (4件)： 有機ハフニウム化合物 ,  酸化ハフニウム ,  化学蒸着 ,  評価