単分子層被覆以下の低濃度でベンゼンを吸着したシリカゲル表面における陽子のダイナミクスと表面不均一性

PETERSON E M; O’REILLY D E; TSANG T

文献

J-GLOBAL ID：201002049292307065 整理番号：79A0343186

単分子層被覆以下の低濃度でベンゼンを吸着したシリカゲル表面における陽子のダイナミクスと表面不均一性

Proton dynamics and surface heterogeneity of silica gel with adsorbed benzene below one monolayer coverage.

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巻： 70 号： 7 ページ： 3409-3416 発行年： 1979年
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

極純および市販(Matheson)シリカゲルを600°Cで脱...

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