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J-GLOBAL ID：201002051161250232   整理番号：78A0108152

RFスパッタCr-SiO膜の性質に及ぼす基板バイアスの効果

Effect of substrate bias on properties of RF-sputtered Cr-SiO films.
著者 (2件)：
MATINO H

MATINO H について

, 
USHIRODA T

USHIRODA T について


資料名：
IBM J Res Dev  (IBM Journal of Research and Development)

IBM J Res Dev について


巻： 21  号： 6  ページ： 576-579  発行年： 1977年 
JST資料番号： D0061B  ISSN： 0018-8646  CODEN： IBMJA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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