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J-GLOBAL ID：201002055159600680   整理番号：78A0260789

薄膜Ni/Fe界面における深さ方向の元素分布と相互拡散

Depth profiling and interdiffusion in thin film Ni/Fe interfaces.
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著者 (2件)：
WANDELT K

WANDELT K について

, 
CHUANG T J

CHUANG T J について


資料名：
Int Vac Congr  (Proceedings. International Vacuum Congress 7th 770912 Vol.1-3)

Int Vac Congr について


巻： 7th  号： 3  ページ： 2091-2093  発行年： 1977年 
JST資料番号： K19770176  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： オーストリア (AUT)  言語： 英語 (EN)
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ニッケル

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界面

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深さ方向

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相互拡散

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