SiO<sub>2</sub>/Si基板上のモリブデン膜の内部応力に及ぼす蒸着後熱処理の影響

OIKAWA H; NAKAJIMA Y

文献

J-GLOBAL ID：201002061245582015 整理番号：78A0005092

SiO₂/Si基板上のモリブデン膜の内部応力に及ぼす蒸着後熱処理の影響

Effect of heat treatment after deposition on internal stress in molybdenum films on SiO₂/Si substrates.

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巻： 14 号： 5 ページ： 1153-1156 発行年： 1977年
JST資料番号： C0789A ISSN： 0022-5355 CODEN： JVSTA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

膜構造をX線回折線の半値幅と走査電子顕微鏡像から求めた。蒸着...

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SiO2/Si基板上のモリブデン膜の内部応力に及ぼす蒸着後熱処理の影響

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