TEOS(SiO4O8H20)からSiO2の低圧分離付着のためのモデル

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J-GLOBAL ID：201002062213918654 整理番号：80A0198400

TEOS(SiO₄O₈H₂₀)からSiO₂の低圧分離付着のためのモデル

Ein Modell fuer die Niederdruckabscheidung von SiO₂ aus “TEOS” (SiO₄C₈H₂₀).

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 68 ページ： 178-180 発行年： 1979年
JST資料番号： E0417A ISSN： 0341-0196 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：ドイツ語 (DE)

高集積化のための技術としてのCVD処理の応用で,最近寸法が増...

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