集積回路製作におけるプラズマ・エッチング  レビュー

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J-GLOBAL ID：201002064056639692 整理番号：77A0189679

集積回路製作におけるプラズマ・エッチングレビュー

Plasma etching in integrated circuit manufacture - A review.

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 14 号： 1 ページ： 266-274 発行年： 1977年
JST資料番号： C0789A ISSN： 0022-5355 CODEN： JVSTA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

プラズマ・エッチ法にはドライ・清浄・単純な工程・仕上り精度の...

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