rfスパッタZnO膜の育成最適条件の研究

KHURI-YAKUB B T; KINO G S; GALLE P

文献

J-GLOBAL ID：201002064438249266 整理番号：75A0351118

rfスパッタZnO膜の育成最適条件の研究

Studies of the optimum conditions for growth of rf-sputtered ZnO films.

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資料名：
巻： 46 号： 8 ページ： 3266-3272 発行年： 1975年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

(111)Au,(111)Si,(0001)サファイアおよび...

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