ポリ(メチルメタアクリレート)電子レジスト中の現像されたプロフィルの時間展開

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J-GLOBAL ID：201002064568732449 整理番号：75A0116189

Time evolution of developed contous in poly-(methyl methacrylate) electron resist.

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資料名：
巻： 45 号： 12 ページ： 5264-5268 発行年： 1974年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ポリ(メチルメタアクリレート)(PMMA)電子レジスト中の露...

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