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J-GLOBAL ID:201002064578032674   整理番号:77A0267823

わずかにドープした半導体のドナーおよびアクセプタ濃度の繰返し測定法-n型GaAsへの応用

M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>thode it<span style=text-decoration:overline>e ́</span>rative de calcul des concentrations en <span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>ments donneurs et accepteurs d’un semiconducteur faiblement dop<span style=text-decoration:overline>e ́</span>: application au cas de GaAs de type n.
著者 (4件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 877-883  発行年: 1977年 
JST資料番号: B0655A  ISSN: 0035-1687  CODEN: RPHAA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: フランス (FRA)  言語: フランス語 (FR)
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従来は半導体の不純物濃度を求めるとき分散因子r<sub>H<...
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