溶液中のアイソタクチックおよびアタクチックポリスチレンとポリ(p-メチルスチレン)のけい光消光によるエキサイマ形成の機構

ISHII T; HANDA T; MATSUNAGA S

文献

J-GLOBAL ID：201002069649332854 整理番号：77A0369052

溶液中のアイソタクチックおよびアタクチックポリスチレンとポリ(p-メチルスチレン)のけい光消光によるエキサイマ形成の機構

A study on mechanism of excimer formation through fluorescence quenching for isotactic and atactic polystyrenes and poly(p-methylstyrenes) in solution.

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巻： 178 号： 8 ページ： 2351-2366 発行年： 1977年
JST資料番号： D0010A ISSN： 0025-116X CODEN： MACEA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：スイス (CHE) 言語：英語 (EN)

けい光消光から計算した速度パラメータおよびエキサイマの発光バ...

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