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J-GLOBAL ID:201002070192654298   整理番号:80A0036633

シリコンウエーハのそり

著者 (1件):
資料名:
巻: 49  号:ページ: 83-89  発行年: 1980年 
JST資料番号: F0252A  ISSN: 0369-8009  CODEN: OYBSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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引用文献 (11件):
  • 1) 高須新一郎;応用物理 45 (1976) 1103.
  • 2) 井入正博,古川章彦:応用物理 46 (1977) 1211.
  • 3) Pei Wang: Semiconductor Silicon 1977 (Electrochemical Society, Princeton, 1977) p. 170.
  • 4) Shin. Takasu and Y. Matsushita: Proc. 6th Conf. Solid State Devices, Tokyo, 1974, J. Jpn. Soc. Appl. Phys.44 (1975) Suppl. p. 259.
  • 5) 高須新一郎,井出川洋,大塚英雄:東芝レビュー 28 (1973) 1438.
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