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J-GLOBAL ID：201002070391685003   整理番号：79A0118971

超高真空下でのシリコンの分子線エピタクシーおよび固相エピタクシー

Molecular beam and solid-phase epitaxies of silicon under ultra-high vacuum.

著者 (4件)： SHIRAKI Y ,  KATAYAMA Y ,  KOBAYASHI K L I ,  KOMATSUBARA K F
資料名： J Cryst Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 45  ページ： 287-291  発行年： 1978年 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  CODEN： JCRGA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温でのシリコンエピタキシャル成長を分子線エピタクシーと高真...

シソーラス用語： けい素 ,...

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タイトルに関連する用語 (4件)： 高真空 ,  シリコン ,  分子線エピタクシー ,  固相エピタクシー