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J-GLOBAL ID：201002072276501074   整理番号：77A0042902

新しいCVD法による厚さの均一な大面積成長

Producing extended area deposits of uniform thickness by a new chemical vapor deposition technique.
著者 (1件)：
BRYANT W A

BRYANT W A について


資料名：
J Cryst Growth  (Journal of Crystal Growth)

J Cryst Growth について


巻： 35  号： 3  ページ： 257-261  発行年： 1976年 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  CODEN： JCRGA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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従来のCVD法で成長層の厚さの均一性があまりよくないのは,反...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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タングステン

タングステン について

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化学蒸着

化学蒸着 について


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タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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CVD法

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厚さ

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大面積

大面積 について

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成長

成長 について


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