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J-GLOBAL ID:201002091334766100   整理番号:78A0020862

溶液中のポリアクリロフェノンの光化学 II 禁止剤の高濃度領域での禁止曲線。静的脱活性化と選択的溶媒和

Photochimie de la polyacryloph<span style=text-decoration:overline>e ́</span>none en solution. 2. Courbe d’inhibition a fortes concentrations en inhibiteur. D<span style=text-decoration:overline>e ́</span>sactivation statique et solvatation pr<span style=text-decoration:overline>e ́</span>f<span style=text-decoration:overline>e ́</span>rentielle.
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資料名:
巻: 178  号: 10  ページ: 2887-2893  発行年: 1977年 
JST資料番号: D0010A  ISSN: 0025-116X  CODEN: MACEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: フランス語 (FR)
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溶媒と消光剤としての1-メチルナフタレン(MN)中のポリアク...
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