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J-GLOBAL ID：201002091564775671   整理番号：78A0037399

鉛,ジルコニウムおよびチタン薄膜のイオン線反応スパッタリング

Reactive ion beam sputtering of thin films of lead, zirconium and titanium.

著者 (1件)： CASTELLANO R N
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 46  号： 2  ページ： 213-221  発行年： 1977年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  CODEN： THSFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化合物膜を反応スパッタリングで得る基礎過程を明らかにするため...

シソーラス用語： スパッタ ,...

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タイトルに関連する用語 (5件)： 鉛 ,  ジルコニウム ,  チタン薄膜 ,  イオン線 ,  反応スパッタリング