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J-GLOBAL ID：201002092655680742   整理番号：79A0085059

レート制御双EB-ガン蒸着によるアルミニウム-シリコン メタライゼーション

Aluminum-silicon metallization by rate controlled dual EB-gun evaporation.

著者 (2件)： HEGNER F ,  FEUERSTEIN A
資料名： Solid State Technol  (Semiconductor Products)
巻： 21  号： 11  ページ： 49-54  発行年： 1978年 
JST資料番号： E0226A  ISSN： 0038-111X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体素子のメタライゼーション用のAl-Si合金を蒸着速度を...

シソーラス用語： メタライゼーション【IC】 ,...

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タイトルに関連する用語 (7件)： レート制御 ,  EB ,  ガン ,  蒸着 ,  アルミニウム ,  シリコン ,  メタライゼーション