文献
J-GLOBAL ID：201002094909018045 整理番号：75A0344799
Ga
1-x
In
x
N薄膜の作成と光学的性質
Preparation and optical properties of Ga
1-x
In
x
N thin films.
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=75A0344799©=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=75A0344799&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}
著者 (3件)：
OSAMURA K
OSAMURA K について
名寄せID(JGPN) 201550000154687346 ですべてを検索
「OSAMURA K」ですべてを検索
,
NAKA S
NAKA S について
名寄せID(JGPN) 201550000213362103 ですべてを検索
「NAKA S」ですべてを検索
,
MURAKAMI Y
MURAKAMI Y について
名寄せID(JGPN) 201550000034444806 ですべてを検索
「MURAKAMI Y」ですべてを検索
資料名：
J Appl Phys (Journal of Applied Physics)
J Appl Phys について
JST資料番号 C0266A ですべてを検索
ISSN,ISBN,CODENですべてを検索
資料情報を見る
巻：
46
号：
8
ページ：
3432-3437
発行年：
1975年
JST資料番号：
C0266A
ISSN：
0021-8979
CODEN：
JAPIA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
電子ビームプラズマ法を用いて,Ga<sub>1-x</sub...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
光学的性質
光学的性質 について
「光学的性質」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,...
続きはJDreamIII（有料）にて
{{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=75A0344799&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0266A") }}
タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
薄膜
薄膜 について
「薄膜」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,
光学的性質
光学的性質 について
「光学的性質」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
前のページに戻る
TOP
BOTTOM
