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J-GLOBAL ID：201002096098987991   整理番号：79A0280327

スピン・オンしたりんドープ酸化けい素膜からSiへのりん拡散

Phosphorus diffusion in silicon from a spin-on P-doped silicon oxide film.

著者 (1件)： MAR K M
資料名： J Electrochem Soc  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 126  号： 7  ページ： 1252-1257  発行年： 1979年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 0013-4651  CODEN： JESOA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スピン・オン膜厚は溶液中のP濃度に比例。膜中のP濃度と溶液中...

シソーラス用語： 不純物拡散 ,...

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タイトルに関連する用語 (6件)： スピン ,  りん ,  ドープ ,  酸化けい素膜 ,  Si ,  拡散