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J-GLOBAL ID：201002098355339141   整理番号：79A0259869

VLSIリソグラフとエッチングの工程に対する一般的なシミュレーション I 投影露光への応用

A general simulator for VLSI lithography and etching processes. I. Application to projection lithography.

著者 (4件)： OLDHAM W G ,  NANDGAONKAR S N ,  NEUREUTHER A R ,  O’TOOLE M
資料名： IEEE Trans Electron Devices  (IRE Transactions on Electron Devices)
巻： 26  号： 4  ページ： 717-722  発行年： 1979年 
JST資料番号： C0222A  ISSN： 0018-9383  CODEN： IETDA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： IC製造のいろいろな主要工程で線端分布を作るシミュレータを開...

シソーラス用語： LSI ,...

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タイトルに関連する用語 (7件)： VLSI ,  リソグラフ ,  エッチング ,  シミュレーション ,  投影 ,  露光 ,  応用