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J-GLOBAL ID：201002098724394380   整理番号：79A0168383

二重波長レーザによるアニーリング

Dual-wavelength laser annealing.

著者 (3件)： AUSTON D H ,  GOLOVCHENKO J A ,  VENKATESAN T N C
資料名： Appl Phys Lett  (Applied Physics Letters)
巻： 34  号： 9  ページ： 558-560  発行年： 1979年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面の溶融を開始するために,比較的に弱い,可視光パルスを用い...

シソーラス用語： レーザ照射 ,...

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タイトルに関連する用語 (3件)： 波長 ,  レーザ ,  アニーリング