文献
J-GLOBAL ID：201002099553716186   整理番号：78A0244190

ひ素スピン-オン拡散源による拡散プロセス

Diffusion processing of arsenic spin-on diffusion sources.
  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=78A0244190&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0226A") }}
著者 (3件)：
JUSTICE B H

JUSTICE B H について

, 
HARNISH D F

HARNISH D F について

, 
JONES H F

JONES H F について


資料名：
Solid State Technol  (Semiconductor Products)

Solid State Technol について


巻： 21  号： 7  ページ： 39-42  発行年： 1978年 
JST資料番号： E0226A  ISSN： 0038-111X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
N-MOS,VMOS,TTL,ECL,I<sup>2</su...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ひ素

ひ素 について

,...
   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=78A0244190&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0226A") }}
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
ひ素

ひ素 について

, 
スピン

スピン について

, 
拡散

拡散 について

, 
拡散プロセス

拡散プロセス について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM