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J-GLOBAL ID：201002132675993200   整理番号：10A1172694

193nmリソグラフィ用のレジスト上のビニルエーテル相互リンカーの性能

Performance of vinyl ether cross-linkers on resist for 193 nm lithography

著者 (6件)： LEE Js ,  SUZUKI H ,  ODOI K ,  MIYAGAWA N ,  TAKAHARA S ,  YAMAOKA T
資料名： ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XIX, PTS 1 AND 2
ページ： 541-548  発行年： 2002年 
JST資料番号： I20020174  ISSN： 0277-786X  ISBN： 0-8194-4436-7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： リソグラフィ ,  レジスト ,  ビニルエーテル ,  リンカー