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J-GLOBAL ID:201002200550361860   整理番号:10A1060724

SiC(0001)上の低次元カーボンナノ構造の成長の批判的解説: 成長環境の影響

A critical review of growth of low-dimensional carbon nanostructures on SiC (0 0 0 1): impact of growth environment
著者 (3件):
資料名:
巻: 43  号: 37  ページ: 374004,1-9  発行年: 2010年09月22日 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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グラフェンやカーボンナノチューブ(CNT)構造は多くの電子素子への応用が期待される。SiC上にグラフェンとCNTを成長させる技術を要約し,成長過程に及ぼす機構と因子を概説した。成長環境における残留気体の組成は非常に重要なパラメータであり,成長時に残留気体を監視する必要性を示唆した。特に,SiC表面の黒鉛化過程と界面構造の理解と制御を確立する必要がある。真空及び雰囲気環境を含め,成長状況と成長温度について検討し,分解と成長の機構を論じた。熱分解と化学分解の過程を示した。
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分類 (1件):
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その他の無機化合物の結晶成長 

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