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J-GLOBAL ID：201002201815297820   整理番号：10A1481132

プラズマ露出の程度を変えることによるTiO2スパッタ膜の結晶方位とラマン範囲間の相関関係

Correlation between crystallographic orientations and Raman spectra of TiO2 sputtered films with changing degrees of plasma exposure

著者 (5件)： TAKAHASHI T ,  NAKABAYASHI H ,  TANABE J ,  YAMADA N ,  MIZUNO W
資料名： JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A
巻： 21  号： 4  ページ： 1419-1423  発行年： 2003年 
JST資料番号： O4280A  ISSN： 0734-2101  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  程度 ,  TiO2 ,  スパッタ膜 ,  結晶方位 ,  相関関係