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J-GLOBAL ID：201002202002670016   整理番号：10A1615774

アルケンのNi-触媒されたヒドロシアン化における配位子の開発

Ligand development in the Ni-catalyzed hydrocyanation of alkenes

著者 (3件)： BINI Laura (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD) ,  MUELLER Christian (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD) ,  VOGT Dieter (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 46  号： 44  ページ： 8325-8334  発行年： 2010年11月28日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 安定性,活性および選択性に関する触媒性能の改善に向けた配位子構造および電子特性に着目し,アルケンのNi-触媒されたヒドロシアン化反応において適用される異なる単座-および二座-りん-ベースの配位子の開発,それらの触媒性能への影響およびその影響の基本的な理解の程度を紹介した。ここで紹介した例から,アルケンヒドロシアン化反応におけるニッケル触媒の性能が配位子の立体配座的および電子的影響の非常に繊細な相互作用によって支配されていることが示された。包括的な反応速度は,生成物ニトリルの速度限界還元排除によって一般的に決定付けられ,単座配位子はバルキー電子-求引性π-アクセプターでなければならず,十分な触媒安定性を得るためには過剰に適用されなければならなかった。堅く大きなかみ合い角の二座配位子は,触媒活性種の安定化への非常に有益な効果を有し,不活性なジシアノニッケル(II)種の形成を抑制し,同時に還元排除の速度を増大させたが,強く配位したπ-アクセプター配位子に対して不活性な種を生じる,Ni(0)との非常に安定なビスキレート錯体を形成する傾向があった。

シソーラス用語： *アルケン ,  *ヒドロシアン化 ,  *ニッケル触媒 ,  ニッケル錯体 ,  触媒活性 ,  立体配座 ,  反応速度 ,  シアノ錯体 ,  キレート化合物 ,  配位子効果 ,  ホスフィン錯体 ,  不斉配位子

分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  コバルトとニッケルの錯体  (CE01092Y) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

タイトルに関連する用語 (6件)： アルケン ,  Ni ,  触媒 ,  ヒドロシアン化 ,  配位子 ,  開発