文献

J-GLOBAL ID：201002202540093665   整理番号：10A0144253

HfB₂の合成およびTiSi₂との新しいコンポジットの開発に関する研究

Investigations on synthesis of HfB₂ and development of a new composite with TiSi₂

著者 (6件)： SONBER J.k. (Materials Group, Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400085, IND) ,  MURTHY T.s.r.ch. (Materials Group, Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400085, IND) ,  SUBRAMANIAN C. (Materials Group, Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400085, IND) ,  KUMAR Sunil (Post Irradiation Examination Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400085, IND) ,  FOTEDAR R.k. (Materials Group, Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400085, IND) ,  SURI A.k. (Materials Group, Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400085, IND)
資料名： International Journal of Refractory Metals & Hard Materials  (International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻： 28  号： 2  ページ： 201-210  発行年： 2010年03月 
JST資料番号： H0059B  ISSN： 0263-4368  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文はモノリシックのHfB₂合成と緻密化および焼結添加物としてのTiSi₂の効果に関して行なった研究結果を報告する。HFO₂を炭化ホウ素還元し純粋なHfB₂を作製しTiSi₂を添加して完全密度までホットプレスした。このコンポジットを850°Cで64hまで加熱し等温酸化させて研究した。1200°CでHfB₂が形成されたが純粋なHfB₂は真空中で遥かに高い1875°Cで形成した。1850°C,35MPaの圧力でHfB₂をホットプレスすると80%TDの成形体を得た。TiSi₂の添加はより低温の1600°Cで20MPaの圧力で遥かに高密度を得るのに効果があった。15%TiSi₂でHfB₂およびTiSi₂の十分に密なコンポジットを得た。このコンポジットの硬さと破壊靭性は,それぞれ27.4±1.9GPa,6.6±0.2MPam^1/2であった。コンポジット中の亀裂伝播にかなりの偏向を観察した。酸化の研究では,HfO₂,SiO₂,TiO₂およびいくらかのガラス状の相を伴うHfSiO₄の形成を示し,15%TiSi₂のコンポジットはガラス状の保護相で完全に覆われている。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *セラミック ,  *耐熱材料 ,  *ケイ化物 ,  *チタン化合物 ,  *ハフニウム化合物 ,  *ホウ化物 ,  複合材料 ,  助剤 ,  ホットプレス ,  焼結 ,  密度 ,  微小硬さ ,  破壊靱性 ,  亀裂伝搬 ,  緻密化
準シソーラス用語： *ケイ化チタン ,  *ホウ化ハフニウム ,  焼結助剤 ,  *超高温セラミック

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： コンポジット ,  開発 ,  研究