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文献
J-GLOBAL ID:201002203551909566   整理番号:10A1069469

構造明確で末端重合性星型ポリスルフィドの合成とネガティブフォトレジストへの利用

Synthesis of Well-Defined and End-Polymerizable Star-Shaped Polysulfides and Their Application to Negative Photoresist
著者 (5件):
資料名:
巻: 48  号: 20  ページ: 4385-4392  発行年: 2010年10月15日 
JST資料番号: C0337C  ISSN: 0887-624X  CODEN: JPLCAT  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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三官能性開始剤:1,3,5-[2-{PhCH2NHC(S)O}-3-(HSCH2)-プロピル]-1,3,5-ヘキサヒドロトリアジン-2,4,5-トリオンに,DBU存在下に2-(フェノキシメチル)チイランをアニオン重合し,4-(クロロメチル)スチレンで反応停止して末端スチレン化星型ポリマーを得た(Mn~3400)。アクリロイルクロリド,メタクリロイルクロリド,シンナモイルクロリド処理では分子量分布の広いポリマーが生成した。架橋剤ポリエチレングリコールジアクリレート(10wt%),光開始剤ベンジルジメチルケタール,増感剤ベンゾフェノンを加えてSiウエハにスピンコートし(厚さ2μm),マスク後,UV照射して70°Cベーキング,酢酸エチルで現像しTHF不溶のネガティブフォトレジストパターンを得た。キュア品は単一のTg19.4°Cを示した。一または二官能性開始剤の使用では高い厚みのキュアフィルムは得られなかった。
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分類 (4件):
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三員複素環化合物  ,  単独重合  ,  高分子と低分子との反応  ,  固体デバイス製造技術一般 
物質索引 (8件):
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